ASML示好中国光刻机，专项报告却戳中痛点！自研真的无法突破？：《亚洲香蕉久久一区二区》

基于我们国内在半导体领域上起步相对比较晚，所以在很多关键的设备以及核心的技术上都很依赖进口。

比如说其中之一就是光刻机。

而在这种前提加之美方对属于他们自己技术上的限制情况之下，我们国内有不少的企业也在努力的去突破光刻机的技术。

至于我们能不能研究出属于自己的光刻机这一点，ASML的一个工程师在很早之前就说过，就算是把图纸给我们，我们都造不出来。

不过，在这两年来，ASML对于这一点已经不太确定了，甚至还在“示好”中国的光刻机。

比如说，他们认为老美对向中国出口光刻机的做法，会加快我们自研发的进度。

同时，其认为我们在15年的时间里就可能做出光刻机。

再比如说在近日，ASML又表态：中国不太可能独立的复制出顶尖的光刻机技术，但这只是不太可能并不绝对，因为中国企业会尝试的。

从这两个言论，我们不难看出ASML给了不少研究光刻机技术的中国企业一颗“定心丸”。

只是，小编还是想说，ASML这样的话，有他自己的考虑，我们真要是当真那就输了。

当然，ASML的话依旧具备参考性。

至少很多人还是在情绪高涨的认为，我们也是有可能突破光刻机的壁垒的。

但实际情况是什么呢？根据国家的“02专项”报告中统计的数据显示：在EUV光刻机的专利上，日本的占比是45.5％，美国的占比是30.27％，而第三则是德国占比13.5％。

至于我们中国的占比仅仅为1.13％。

可以看到这一则报告直接戳中了我们目前自研发光刻机的痛点，技术上暂时没有办法突破就算了，就连专利我们的占比都丝毫的不够看。

那么看完这一则数据，再回过头来看看ASML对于中国市场上研发光刻机的事情如此的“示好”，你们真的还会认为ASML确实是看好我们的自研发光刻机吗？这个答案是很显然的。

说白了，ASML这样的态度无非就是希望老美松松手，提高ASML的营收，让其有个漂亮的数据，毕竟谁也不会嫌自己赚的钱多。

所以，我们要在短时间内，就要达到ASML目前的技术情况，真的特别的难，也不应该去轻信ASML的话。

那么在这种情况下，我们要自研发光刻机真的就无法突破目前的技术堡垒了吗？不算是光刻机的行业内人士，所以从技术的角度出发暂时无法回答这个问题。

不过，从业界大企业，如台积电的一些举动来说，我们并不是没有这个可能。

在前段时间，台积电就表示DUV光刻机的技术也依旧可以造出先进的5nm和7nm的芯片。

而在DUV光刻机技术上我们国内的企业并非是毫无建树。

由此可见，我们突破技术堡垒只是时间问题。

不过突破技术堡垒是一回事，打造一个完整的光刻机供应链那又是另外一件事。

所以，如果非要准确的来说，在光刻机方面达到完全的自研，这可并不能用一句“只是时间问题”就能回答的。

值得注意的是，台积电在表态DUV光刻机可以造先进制程芯片之前，台积电还选择了赴日建厂。

之所以提及这一点，可以对比看看报告中，日本在光刻机的专利上占比是第一的。

虽说日本现在在半导体的地位上并没有以前那么好，但在半导体的材料和设备在全球的产业链都保持着一个较高的占比。

台积电选择赴日建厂，也很有可能是冲着这一点优势去的。

我们不难看出，其实台积电正在逐步的脱离更多含有美方技术的东西。

当然，很明显，台积电更看好的是日本的光刻机市场，并不是我们国内。

但是从台积电的这个举动来说，侧面也说明了含有美方技术的东西并不是那么不可替代，我们也不是没有可能自研发出高端的光刻机。

相比起来说，ASML对中国光刻机的“示好”给中国的企业一定的信心，同时又想让老美松松手的做法，台积电的做法似乎更加的聪明。

因为台积电是尽可能的在避免对使用含有美方技术的设备，同时还在为自己找后路。

如果台积电“去美化”很成功，那么台积电一样有更多的市场，但ASML却恰恰相反。

最后，对于光刻机这个方面你们有什么其他的看法呢？欢迎留言评论、点赞和分享！